7分鐘前 臺(tái)式電腦殼曝光顯影加工定制信息推薦「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：

曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。

曝光不足，導(dǎo)致單體聚合不，那么在顯影過(guò)程中，會(huì)使的膠膜變軟，線條不清晰，色澤暗淡，脫膠。曝光過(guò)度，會(huì)造成難顯影，留有殘膠。

蝕刻曝光就是通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

底片尺寸的穩(wěn)定性隨環(huán)境的溫度和貯存時(shí)間而變化。所以，底片的生產(chǎn)、貯存和使用采用恒溫的環(huán)境，采用厚底片也能提高照相底片的尺寸穩(wěn)定性。

除此以外，曝光機(jī)的真空系統(tǒng)和真空曝光框架材料的選擇，也影響曝光成像的質(zhì)量。

顯影時(shí)，通過(guò)感光鼓和顯影輥之間的電場(chǎng)作用，碳粉被吸到感光鼓曝光區(qū)域。其中曝光部位電位低于顯影輥表面電位低于感光鼓未曝光部位電位。多用在數(shù)碼復(fù)合機(jī)與激光打印機(jī)中。

3D玻璃顯影曝光技術(shù)在HW mateRs用到了此技術(shù)，該后蓋3D玻璃8曲面，弧面曲率大，普通的貼膜技術(shù)難以解決，應(yīng)用范圍主要是機(jī)型，曲率越大的玻璃加工制造難度加大，良率降低，成本報(bào)價(jià)相應(yīng)要高，設(shè)計(jì)八曲面玻璃主要是為了滿足如下兩點(diǎn)需求：曝光顯影加工是半導(dǎo)體工業(yè)制程中的一種加工方法，也被稱為光刻工藝。它是通過(guò)在芯片表面上涂覆一層光刻膠，并使用掩膜在光刻膠上曝光出所需要的芯片圖案，通過(guò)顯影來(lái)去除未曝光的部分，將芯片圖案準(zhǔn)確地轉(zhuǎn)移到芯片表面的制程。

顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時(shí)，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時(shí)，在感光鼓表面靜電潛像是場(chǎng)力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。常用1％～2％的碳酸鈉水溶液作顯影液，液溫30～40℃，顯噴淋去膜生產(chǎn)，但應(yīng)經(jīng)常檢查噴嘴是否堵塞，在膜液中必須添加消泡劑。 感光(曝光)完成后就要進(jìn)行下一步工作——顯影。顯影的目的是通過(guò)顯影將未曝光的地方?jīng)_走，經(jīng)過(guò)曝光的地方固化，這樣就能確定需要被腐蝕和不被腐蝕的圖案。以便后續(xù)蝕刻加工的精度。