5分鐘前 臨安音箱曝光顯影加工供應來電咨詢「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：顯影：使用顯影液將未曝光的光刻膠清除掉，將芯片圖案暴露出來。刻蝕：使用化學反應或物理方法將芯片表面的材料刻蝕掉，形成所需的電子器件結構。清洗：將芯片在化學清洗液中清洗干凈，并使用干燥器進行干燥。顯影液去除并且清洗（rinse）：達到顯影時間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止，而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。

曝光時菲林膠片黑色部分的鋼片不被感光，對于空白的蝕刻鋼片感光，蝕刻加工中曝光顯影是蝕刻工序前的一步重要的工序，曝光是將需要蝕刻的圖案通過光繪轉移到兩張一樣的菲林膠片上，然后通過機器定位或者人工定位的方式去將菲林對準，再將涂布感光油墨的蝕刻片置于菲林中間，固定后進行曝光。在硅片表面涂覆顯影液。為了將顯影液均勻地涂覆到硅片表面上，顯影噴嘴分為以下幾種：E2噴嘴，LD噴嘴，GP噴嘴，MGP噴嘴等。音箱曝光顯影加工供應音箱曝光顯影加工供應音箱曝光顯影加工供應音箱曝光顯影加工供應

3D玻璃顯影曝光技術在HW mateRs用到了此技術，該后蓋3D玻璃8曲面，弧面曲率大，

設計八曲面玻璃主要是為了滿足如下兩點需求：

1:為壓縮整機厚度，后蓋弧度大可增加架構空間，另未來5G的發展，器件增加，空間需加大;

顯影液去除并且清洗（rinse）：達到顯影時間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止，而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。在沖洗過程中，晶圓旋轉產生的離心力也對去除表面顆粒有很大的幫助。