網(wǎng)板清洗機(jī)有三項(xiàng)清洗工藝，分別是清洗溶液的清洗、超聲波的漂洗、風(fēng)切的除水項(xiàng)溶劑清洗的工藝是應(yīng)用事前在鋼網(wǎng)清洗機(jī)內(nèi)部裝配好的夾板夾住鋼網(wǎng)，并自動(dòng)化控制，使網(wǎng)板往復(fù)慢拉，保證每一個(gè)位置都能被噴淋到位，清洗溶劑在超聲波的作用下產(chǎn)生上萬的空化氣泡。

由于不時(shí)構(gòu)成的小氣泡在正壓的環(huán)境下疾速，后的氣泡會(huì)構(gòu)成一種沖擊力氣，即我們放手去感受會(huì)有被無數(shù)針扎的覺得，假如頻率再高一點(diǎn)，總覺得本人的手掌能被擊穿，所以，大家千萬不要隨便去嘗試。數(shù)以萬計(jì)的氣泡決裂產(chǎn)生的力氣能夠快速擊落黏在網(wǎng)版上的錫膏紅膠，加上一個(gè)高壓的噴淋系統(tǒng)，能夠說是全網(wǎng)清洗無死角了。

泛半導(dǎo)體工藝伴隨許多種特殊制程，會(huì)使用到大量超高純（ppt 級(jí)別）的干濕化學(xué)品，這是完成工藝成果的重要介質(zhì)，其特點(diǎn)是昂貴并伴隨排放。在集成電路領(lǐng)域，高純工藝系統(tǒng)主要包括高純特氣系統(tǒng)、大宗氣體系統(tǒng)、高純化學(xué)品系統(tǒng)、研磨液供應(yīng)及回收系統(tǒng)、前驅(qū)體工藝介質(zhì)系統(tǒng)等。其中，各類高純氣體系統(tǒng)主要服務(wù)于幾大干法工藝設(shè)備，各類高純化學(xué)品主要服務(wù)于濕法工藝設(shè)備。

隨著半導(dǎo)體芯片工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)進(jìn)入 28 納米、14 納米等更先進(jìn)等級(jí)，工藝流程的延長且越趨復(fù)雜，產(chǎn)線成品率也會(huì)隨之下降。造成這種現(xiàn)象的一個(gè)原因就是先進(jìn)制程對(duì)雜質(zhì)的敏感度更高，小尺寸污染物的清洗更困難。解決的方法主要是增加清洗步驟。每個(gè)晶片在整個(gè)制造過程中需要甚至超過 200 道清洗步驟，晶圓清洗變得更加復(fù)雜、重要及富有挑戰(zhàn)性。