金百辰智能科技（浙江）有限公司從事汽車零部件、家電類、機械配件等塑膠成型與pvd鍍膜工藝加工。

pvd真空鍍膜原理與您分享隨著我國汽車工業的迅速崛起、先進制造技術的大量引進及數控加工技術大面積的普及，自本世紀初，PVD技術在國內掀起了第二次開發熱潮。與九十年代不同，目前國內PVD技術的發展更具多元性及創新性，歸納起來有以下幾種類型：

①陰極電弧法(Cathode Arc Deition)國內已由小圓型陰極電弧技術發展到大面積陰極電弧技術及柱型靶陰極電弧技術，主要用于TiAlN等薄膜的制備。

②熱陰極法(Hot Cathode Plating)源于Balzers的技術，主要用于TiN等薄膜的制備。

③磁控濺射法近年來，磁控濺射技術一直是國內涂層業的重點發展方向，先后出現了非平衡磁控濺射技術、磁控濺射加輔助離子源技術等，可制備各類薄膜。

④磁控濺射附加陰極電弧法目前國內已較多采用的技術，可用于多種薄膜的制備。

⑤空心陰極附加磁控濺射及陰極電弧法空心陰極在國內是一項傳統技術，其應用市場仍舊存在。為了充分發揮此技術的特點，國內的研究者將空心陰極與磁控濺射技術、陰極電弧技術結合在一起，用于多元薄膜的制備，且這種全新的嘗試已對市場產生了影響。

歸納起來，國內刀具涂層技術開發的目的仍以TiAlN薄膜為主，上述各類技術已可在切削刀具上制取多種膜層，包括TiAlN薄膜，但目前所欠缺的是應用基礎的研究及工業化生產工藝穩定性的保障。

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pvd真空鍍膜原理與您分享表面科學領域對真空度的要求高。

在高真空的環境下，通過高溫退火或結合離子濺射而獲得物質的清潔表面，這時的表面沒有吸附任何其他的分子或原子。利用掃描隧道電子顯微鏡等表面分析實驗手段，可以看到物質表面的原子排列和電子狀態。

物理學中的粒子，是大規模真空技術的組合。

電子(或其他帶電粒子)要被加速到接近光速，如果電子儲存環中不是高真空狀態，則電子會和其中的分子或原子碰撞，從而迅速衰減。另外，核聚變反應要達到上億度的高溫，高真空環境是系統工作的基本前提。

、宇宙開發方面也離不開真空。

隱形飛機或潛艇，要大限度地吸收雷達波，以達到不被發現的目的。涂在飛機或潛艇上的吸收雷達波材料，就是活用真空技術而獲得的

減反射膜

是應用廣泛的光學薄膜，它可以減少光學表面的反射率而提高其透射率。對于單一波長，理論上的反射率可以降到零，透射率為百分之100;對于可見光譜段，反射率可以降低到百分之0.5，甚至更低，以保證一個由多個鏡片組成的復雜系統有足夠的透射率和低的雜散光。現代光學裝置沒有一個是不經過減反處理的。由于其具有很低的反射率和鮮艷的表面顏色，現代人們日常生活中的眼鏡普遍都鍍有減反射膜。

漂洗

漂洗是為了將殘留在工件上的清洗液或其他臟物清理干凈，使工件在烘干之前更加干凈。工件上的殘留物在烘干后將很難清理干凈。在工業領域中．通常使用去離子水來進行漂洗，用去離子水而不用自來水進行漂洗．可避免自來水中的雜質及污染物殘留在工件上。但是，去離子水的侵蝕性強，會對工件造成腐蝕。所以，必須在去離子水中加入一定量的防銹劑，才能用來漂洗工件．以防止工件在漂洗及烘干過程中被銹蝕。

烘干

清洗完的工件一般放入烤箱中烘干，烤箱包括箱體、排水管路、加熱系統、排風系統及溫度控制系統。水的沸騰、汽化溫度為100℃，因而烘烤溫度必須大于100℃，建議在110℃～130℃之間，這樣既可以將水分快速蒸發烘干工件．又不至于烘干后，工件溫度太高而需要很長時間冷卻。