真空鍍膜是在原子水平上進行材料生成的技術，鍍層的晶料度在10納米左右，屬于納米材料的范疇。通過對殼內(nèi)壁真空鍍電磁防護膜層，可以極大地防止因電磁波輻射而對手機使用者造成的危害。真空鍍膜技術的研究”，主要解決的是鍍膜的工藝問題，包括電阻率、附著力、高溫性、膜層表面光亮度以及復雜區(qū)域的膜層附著問題。根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型的鍍膜設備，其類型有電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)、磁控濺射、磁控反應濺射、離子鍍、空心陰極離子鍍、多弧離子鍍等。

真空鍍膜機是由真空爐體，真空泵，控制柜，真空計，冷卻系統(tǒng)等部件組成，真空驢體可選擇由不銹鋼、碳鋼或它們的組合制成的雙層水冷結構。

根據(jù)工藝要求選擇不同規(guī)格及類型真空鍍膜機，其類型有電阻蒸發(fā)真空鍍膜設備、電子束蒸發(fā)真空鍍膜設備、磁控濺射真空鍍膜設備、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧離子鍍等。

真空鍍膜機組成結構是怎樣的？一臺完整的真空鍍膜機是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。

真空鍍膜機的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，它的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結實耐用不生銹等。真空腔有許多連接閥用來連接各種輔助泵。

抽真空系統(tǒng)是鍍膜機真空系統(tǒng)的一個重要組成部分，真空度的高低直接影響產(chǎn)品的鍍膜效果，真空度由真空測試系統(tǒng)取得數(shù)據(jù)。

成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時間、目測、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。

采用真空鍍膜機物理氣相鍍(簡稱PVD，亦稱真空鍍)生產(chǎn)出外觀和防腐性的五金配件。采用真空鍍膜機真空鍍膜具有附著力強、鍍層不易脫落；繞射性好，鍍層厚度均勻；鍍層致密，針孑L氣泡少；鍍前易處理，工藝簡單；用料省，無公害等優(yōu)點。可在金屬或非金屬表面上鍍制單質(zhì)、合金或化合物。曾廣泛用于航空、宇航、電子和光學等工業(yè)部門中制備各種特殊性能的鍍層。