x射線發(fā)生裝置的構(gòu)成

1、高穩(wěn)定度X射線源提供測量所需的X射線，改變管陽極靶材質(zhì)可改變波長，調(diào)節(jié)陽極電壓可控制X射線源的強度。

2、樣品及樣品位置取向的調(diào)整機構(gòu)系統(tǒng)樣品須是單晶、粉末、多晶或微晶的固體塊。

3、射線檢測器檢測衍射強度或同時檢測衍射方向，通過儀器測量記錄系統(tǒng)或計算機處理系統(tǒng)可以得到多晶衍射圖譜數(shù)據(jù)。

4、衍射圖的處理分析系統(tǒng)，現(xiàn)代X射線衍射儀都附帶安裝有衍射圖處理分析軟件的計算機系統(tǒng)，它們的特點是自動化和智能化。

x射線發(fā)生裝置的應用

1、金屬，鑄造廠、冶煉廠和鋼廠還有金屬行業(yè)的其他方面都是連續(xù)生產(chǎn)并要求日夜控制生產(chǎn)和進料出料的質(zhì)量。合金的化學含量，殘余應力是與結(jié)構(gòu)失效相關(guān)的重要特征。具有的空間分辨率和測量硬化材料的能力提供了非接觸式測量。

2、涂層，現(xiàn)代生活的每個環(huán)節(jié)都得益于涂層或薄膜技術(shù)。無論是集成電路芯片上的阻擋層薄膜還是鋁制飲料罐上的涂層，X射線是研發(fā)，產(chǎn)品過程控制和質(zhì)量不可缺少的分析技術(shù)。

x射線發(fā)生裝置角度校準的光學新方法

目前x射線發(fā)生裝置的角度檢定和校準測試主要依據(jù)JJG 629—1989《多晶X射線衍射儀檢定規(guī)程》和JB/T 9400—2010《X射線衍射儀技術(shù)條件》等技術(shù)文件,具體方法是采用光學經(jīng)緯儀或多面棱體等進行測試,該測量方法實際應用中存在一定難度,其次測量間隔較大,不能很好反映真實的角度誤差規(guī)律.為此,提出了利用θ角和2θ角同軸并可獨立運動的特點,組合采用光電自準直儀和小角度激光干涉儀等儀器,設(shè)計了一種新的XRD的角度校準方法,它能夠自動快速地連續(xù)測量角度,取k=2時,擴展不確定度約1.2″.使用該方法測試能夠得到θ和2θ軸的誤差數(shù)據(jù),可用于修正XRD測角誤差,提高XRD測試精度.該方法也適用于同步輻射等大型衍射系統(tǒng)等其他需要角度校準的情況.

x射線發(fā)生裝置-涂層應用

現(xiàn)代生活的每個環(huán)節(jié)都得益于涂層或薄膜技術(shù)。無論是集成電路芯片上的阻擋層薄膜還是鋁制飲料罐上的涂層，X射線是研發(fā)，產(chǎn)品過程控制和不可缺少的分析技術(shù)。作為納米技術(shù)研究，X射線衍射(XRD)和附屬技術(shù)被用于確定薄膜分子結(jié)構(gòu)的性質(zhì)。理學的技術(shù)和經(jīng)驗為涂層和薄膜測量提供各種無損分析解決方案。