x射線發生裝置的構成

1、高穩定度X射線源提供測量所需的X射線，改變管陽極靶材質可改變波長，調節陽極電壓可控制X射線源的強度。

2、樣品及樣品位置取向的調整機構系統樣品須是單晶、粉末、多晶或微晶的固體塊。

3、射線檢測器檢測衍射強度或同時檢測衍射方向，通過儀器測量記錄系統或計算機處理系統可以得到多晶衍射圖譜數據。

4、衍射圖的處理分析系統，現代X射線衍射儀都附帶安裝有衍射圖處理分析軟件的計算機系統，它們的特點是自動化和智能化。

x射線發生裝置的應用

1、金屬，鑄造廠、冶煉廠和鋼廠還有金屬行業的其他方面都是連續生產并要求日夜控制生產和進料出料的質量。合金的化學含量，殘余應力是與結構失效相關的重要特征。具有的空間分辨率和測量硬化材料的能力提供了非接觸式測量。

2、涂層，現代生活的每個環節都得益于涂層或薄膜技術。無論是集成電路芯片上的阻擋層薄膜還是鋁制飲料罐上的涂層，X射線是研發，產品過程控制和質量不可缺少的分析技術。

x射線發生裝置角度校準的光學新方法

目前x射線發生裝置的角度檢定和校準測試主要依據JJG 629—1989《多晶X射線衍射儀檢定規程》和JB/T 9400—2010《X射線衍射儀技術條件》等技術文件,具體方法是采用光學經緯儀或多面棱體等進行測試,該測量方法實際應用中存在一定難度,其次測量間隔較大,不能很好反映真實的角度誤差規律.為此,提出了利用θ角和2θ角同軸并可獨立運動的特點,組合采用光電自準直儀和小角度激光干涉儀等儀器,設計了一種新的XRD的角度校準方法,它能夠自動快速地連續測量角度,取k=2時,擴展不確定度約1.2″.使用該方法測試能夠得到θ和2θ軸的誤差數據,可用于修正XRD測角誤差,提高XRD測試精度.該方法也適用于同步輻射等大型衍射系統等其他需要角度校準的情況.

x射線發生裝置-涂層應用

現代生活的每個環節都得益于涂層或薄膜技術。無論是集成電路芯片上的阻擋層薄膜還是鋁制飲料罐上的涂層，X射線是研發，產品過程控制和不可缺少的分析技術。作為納米技術研究，X射線衍射(XRD)和附屬技術被用于確定薄膜分子結構的性質。理學的技術和經驗為涂層和薄膜測量提供各種無損分析解決方案。