在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。因為導致臭氧層破壞的是氟氯烴中的氯原子，它被紫外線輻射擊中時會分離。碳-氟鍵比較強，因此分離的可能性比較低。反應放熱后，氟開始和碳化硅進行反應，通入等體積的干燥氮氣以稀釋氟氣，使反應繼續進行，生成氣體通過液氮冷卻的鎳制捕集器冷凝，然后慢慢地氣化。

由碳與氟反應，或一氧1化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲1烷與氟化1氫反應，或四氯化1碳與氟化銀反應，或四氯1化碳與氟化1氫反應，都能生成四氟化1碳。吸入四氟1化碳的后果與濃度有關，包括頭1痛、惡心、頭昏眼花及心1血管系統的破壞(主要是心臟)。長時間接觸會導致嚴重的心臟破壞。對于硅和二氧化硅體系，采用CF4-O2反應離子刻蝕時，通過調節兩種氣體的比例，可以獲得45：1的選擇性，這在刻蝕多晶硅柵極上的二氧化硅薄膜時很有用。

高純四氟化碳在常溫常壓條件下化學性質穩定，高純四氟化碳是一種高純電子氣體，在電子產業中需求量大。電子四氟化碳是目前半導體行業主要的等離子體蝕刻氣體之一，在硅、二氧化硅、金屬硅化物以及某些金屬的蝕刻，以及低溫制冷、電子器件表面清洗等方面被廣泛應用。而電子特氣系統為它保駕護航，保證四氟化碳（CF4）的純度和安全穩定使用。隨著手機、相機、太陽能電池等消費電子產品的需求量不斷攀升，高純度四氟化碳將成為四氟化碳行業的主要增長動力。

溫室氣體，其造成溫室效應的作用是二氧化碳的數千倍。氟代烴的低層大氣中比較穩定，而在上層大氣中可被能量更大的紫外線分解。四氟化碳的溶氧性很好，因此被科學家用于超深度潛水實驗代替普通壓縮空氣。目前已在老鼠身上獲得成功，在275米到366米的深度內，小白鼠仍可安全脫險。由于化學穩定性極強，CF4還可以用于金屬冶煉和塑料行業等。在電子器件表面清洗、太陽能電池的生產、激光技術、氣相絕緣、低溫制冷、泄漏檢驗劑、控制宇宙火箭姿態、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。