真空鍍膜加工的濾片透射率

由于全介質多層反射膜只在有限的區域是有效的，因此濾光片透射率峰值的兩邊會出現旁通帶．在大多數應用中需要將它們弄掉．短波旁通帶只要在濾光片上疊加一塊長波通吸收玻璃濾光片便很容易去掉，但是很不容易得到短波通吸收濾光片、有些可供利用的吸收濾光片雖然能有效地長波旁通帶,但因其短波方面的透射率太低,大大降低了整個濾光片的峰值透射率．解決這個問題的滿意的辦法是干.脆不用吸收濾光片，而是把后面將要討論的誘導透射濾光片作為截止濾光片使用、由于誘導透射濾光片沒有長波旁通

真空鍍膜加工都使用那些工藝

噴砂和陽極氧化

一般的陽極氧化噴砂是針對的鋁或者鋁合金的較多。砂分為粗砂和細砂，細砂的成本相對要高一點點，一般金屬表面瑕疵較多的會選擇噴粗砂去掩蓋一部分，但是噴砂不能完全掩蓋一些嚴重的瑕疵。細砂一般針對金屬表面比較平整很小瑕疵或者沒有瑕疵的。噴砂以后做氧化能給產品帶來很好的質感。像我們常用的手機殼表面很多都是噴砂之后氧化的

真空鍍膜技術是在真空條件下采用物理或化學方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領域。真空鍍膜技術也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。所以真空技術是涂層制作技術的基礎，獲得并保持所需的真空環境，是鍍膜的必要條件。