ICP光譜儀多久清潔一次？

在諸多的光譜儀產(chǎn)品中，icp光譜儀產(chǎn)品為被廣泛認知，光譜儀可以方便快捷，準確的對光信息的抓取、以照相底片顯影，或電腦化自動顯示數(shù)值儀器顯示和分析，從而測知物品中含有何種元素。而目前，光譜儀的分析技術得到了廣泛的應用，如空氣污染、水污染、食品衛(wèi)生、金屬工業(yè)等的檢測中。波長校正的目的是：對事先存儲在譜線庫中的理論波長坐標位置進行修正、保證實際使用的波長坐標位置準確。

不同光譜儀廠家的儀器特點不同，因而其維護保養(yǎng)時間也是不一樣。為保證儀器的正常運行，延長儀器的使用壽命，廠家建議客戶根據(jù)不同的情況，按如下提示進行定期的部件維護和保養(yǎng)。

如果需要整機的維護和保養(yǎng)，請聯(lián)系相關的廠家，他們會為客戶提供完整的解決方案，以解決客戶的需求。序號項目時間1刷電極每次激發(fā)前2過濾罐清理（7-15）天3激發(fā)臺的清理（3-7）天4清理透鏡（3-6）個月5分子過濾篩（1-3）年注：實際清理時間根據(jù)客戶的使用頻率而定，表中2、3、4、5項給出的是檢查周期，若儀器性能良好，適時檢查即可，并不一定需要清理。它己被廣泛使用于幾乎所有的光譜測量，分析及研究工作中，特別適應于對微弱信號，瞬變信號的檢測。

ICP光源觀察方式

雙向觀測：雙向觀測是在水平觀測ICP光源的基礎，增加一套側向采光光路，實現(xiàn)垂直/水平雙向觀測，即在炬管垂直觀測的方向依次放置3塊反射鏡，當要使用垂直觀測的時候，就通過3塊反射鏡把炬管垂直方向上的光反射到原光路中，并通過旋轉原光路的塊反射鏡，使垂直方向來的光與原水平方向來的光在整個光路中重合。該觀測方式的切換反射鏡由計算機控制，該方式融合了軸向、徑向的特點，具有一定的靈活性，增強了測定復雜樣品的能力。其缺點：基體效應和電離干擾大，線性范圍小，炬管溶液積炭和積鹽而沾污，需要及時清洗和維護，RF功率設置不能一般不超過1350W。改觀測方式可實現(xiàn)以下3中方式的測量：

①全部元素譜線水平測量。

②全部元素譜線垂直測量。

③部分元素譜線水平測量，部分元素譜線垂直測量。

雙向觀測能有效解決水平觀測中存在的電子干擾，進一步擴寬線性范圍。但是該觀測方式需要不斷地切換反射鏡，可 能導致儀器的穩(wěn)定性變差。由于徑向觀測的需要，炬管側面必須開口，導致炬管的壽命大大降低，同時也改變了炬焰的形狀。炬管開口處必須嚴格與光路對準，要不然炬管壁容易積累鹽，會使檢測結果嚴重錯誤;同時如果在開口出現(xiàn)積鹽同樣也會導致儀器檢測結構存在嚴重的錯誤，必須注意清洗。而且增加了曝光次數(shù)，降低了分析速度，增加了分析消耗。單色儀ARCOS采用焦矩為1米的CzernyTurner單色儀，光柵為高光強、高分辯率、雜散光極低的全息光柵，單色儀的設計使其對溫度和壓力的變化都具有的穩(wěn)定性，因此這種光學系統(tǒng)具有優(yōu)異的分析性能。

ICP光譜儀的校正

光學系統(tǒng)校正

在PROFILE儀器中，操作軟件自動控制儀器每30分鐘快速校正、每2小時完全校正光學系統(tǒng)。如果實驗室環(huán)境溫度變化較大，不能保證工作條件，可能造成測量結果數(shù)據(jù)漂移。

光學系統(tǒng)校正使用燈，選擇Hg8線（波長253.652nm），儀器內(nèi)部裝有燈，只要按照操作規(guī)程操作即可。

等離子體位置校正

等離子體位置校正的目的是將光源對準光學系統(tǒng)。通常在重新裝配進樣系統(tǒng)后，點燃等離子體，用Mn溶液（10ug/mL）校正。

在等離子體位置校正過程中，值得注意的是：確保選中Mn 257.610波長、Mn溶液能夠正常進入并形成氣溶膠進入等離子體。如果上述條件沒有滿足，可能造成校正失敗。

3ICP光譜分析儀應用領域

3ICP光譜分析儀是北京吉天儀器有限公司經(jīng)多年技術積累開發(fā)出的一款性能優(yōu)異的光譜儀，用于測定不同物質（可溶解于鹽酸、硝酸等）中的微量、痕量元素含量。自動化程度高，操作簡便，穩(wěn)定和可靠。目前儀器廣泛應用于稀土、地質、冶金、化工、環(huán)保、臨床醫(yī)學、石油制品、半導體、食品、生物樣品、科學、農(nóng)業(yè)研究等各個領域。某種元素在物質中的含量達10^-10(10的負10次方)克，就可以從光譜中發(fā)現(xiàn)它的特征譜線，因而能夠把它檢查出來。