8分鐘前 慶元鋼材202曝光顯影定制來電洽談「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：攝影：在攝影中，曝光顯影將場(chǎng)景中的光線信息記錄在膠片上或電子傳感器中，并通過顯影將記錄的信息轉(zhuǎn)化為可見影像。半導(dǎo)體工業(yè)：在半導(dǎo)體加工中，曝光顯影主要用于制造半導(dǎo)體芯片、液晶顯示器等微電子器件。制版：在制造印刷版時(shí)，曝光顯影用于將印刷圖形轉(zhuǎn)移到印刷版上。納米加工：在納米加工中，曝光顯影技術(shù)用于制造納米結(jié)構(gòu)和納米器件等。

顯影工藝是怎樣？

前工站加工的玻璃進(jìn)入顯影設(shè)備，對(duì)需要去除的油墨進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，進(jìn)行剝離，然后進(jìn)行表面清洗，形成高精度的油墨3D蓋板。顯影操作需控制好顯影液的溫度、傳送速度、噴淋壓力等參數(shù)。

曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。

將顯影液涂覆在曝光后的晶圓表面上，正膠的曝光區(qū)域和負(fù)膠的非曝光區(qū)域溶于顯影液中，進(jìn)一步將反應(yīng)聚合物和顯影液殘留沖洗后，就可以顯現(xiàn)出光刻膠中的圖形，曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、菲林膠片質(zhì)量等因素。綜上可推出3D玻璃曝光顯影技術(shù)是PET貼膜工藝的一種補(bǔ)充，目前應(yīng)用范圍局限于機(jī)型，后續(xù)技術(shù)的突破另當(dāng)別論。